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理光图像技术(上海)有限公司

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新闻动态

RITS 2010年上期技术成果、改善大会召开

时间:2010-8-1

        RITS 2010年上期技术成果、改善成果发表会分别于2010年5月19日和2010年5月21日在深圳和上海召开。上海总公司及深圳分公司的全体员工出席了技术成果及改善发表会。

董事长致开幕辞
总经理致闭幕辞
《Quanp的性能改善》
《操作部检查治具的共通化设计》
《Rinmei相关课题解析和对策》
《测试式样书作成信息的可视化》
《ISO管理系统的改善活动》
《全社License共通管理强化相关的改善》