Skip to main content Skip to first level navigation

RICOH imagine. change.

理光图像技术（上海）有限公司

中国 理光中国 理光全球
Skip to main content First level navigation Menu
理光中国 理光全球
Breadcrumbs
Main content

新闻动态

RITS 2010年上期技术成果、改善大会召开

时间：2010-8-1

        RITS 2010年上期技术成果、改善成果发表会分别于2010年5月19日和2010年5月21日在深圳和上海召开。上海总公司及深圳分公司的全体员工出席了技术成果及改善发表会。

董事长致开幕辞
总经理致闭幕辞
《Quanp的性能改善》
《操作部检查治具的共通化设计》
《Rinmei相关课题解析和对策》
《测试式样书作成信息的可视化》
《ISO管理系统的改善活动》
《全社License共通管理强化相关的改善》