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理光图像技术(上海)有限公司

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新闻动态

RITS 2012年下期技术成果、改善大会召开

时间:2012-12-10

        RITS 2012年下期技术成果、改善成果发表会分别于2012年11月16日和2012年11月23日在上海和深圳召开。上海总公司及深圳分公司的全体员工出席了技术成果及改善成果发表会。

        本次技术成果、改善成果发表会收到全体员工的高度评价,被称为公司成立以来最为精彩的一次发表会。尤其是今年新成立的解决方案推进部以访谈的形式展示《e纸教学云平台解决方案与技术创新》,活泼生动,且发表内容简单易懂,台上台下积极互动,将发表会气氛推向高潮。而管理中心IT/采购课的《IT基础环境的改善》发表,阐述了新办公楼IT寄出环境从零开始、由IT团队自主规划设计并实施的全过程,更体现了公司的IT实力今非昔比,专业性、技术性、服务性等已趋专业水准。

【上海会场】

 

【深圳会场】