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理光图像技术(上海)有限公司

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新闻动态

RITS 2013年下期技术成果、改善成果发表会召开

时间:2013-12-10

    RITS 2013 年下期技术成果、改善成果发表会分别于 20131113 日和 20121115 日在上海和深圳召开。上海总公司及深圳分公司的全体员工出席了技术成果及改善成果发表会。

    本次上海地区发表会先以加藤董事长总结上期 RITS成果并提出下期对各中心的期待为始,各中心代表发表上期取得的显著技术成果和改善成果。必须一提的是, RITS深圳的 [中国开发生产小组]荣获RICOH 成果奖(改善活动奖)!

    会上 PKC上海和深圳两个部门的发表,图文并茂,简单易懂,让众多非相关专业同僚都能理解,且产生了浓厚的兴趣,踊跃提问,问答环节将发表会气氛推向高潮。解决方案推进部继去年的发表会后,又一次精彩演绎,充分展示了 SDG项目组成员的演讲才华,以及开拓解决方案市场的潜能,再次将发表会气氛推向高潮。成果发表会体现出 RITS近年正加速成长,让我们期待明年更精彩的成果发表会!